離子鍍技術(shù)早由D. M. Mattox于1963年提出并付諸實(shí)踐的。其原理是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)，把蒸發(fā)物或其他反應物鍍在基片上的工藝。

根據膜層粒子的獲得方式，離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍，其中蒸發(fā)型離子鍍根據放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。

與不同的氣體發(fā)應形成一種薄膜涂層。今天所使用的大多數PVD方法是電弧和濺射沉積涂層。這兩種過(guò)程需要在高度真空條件下進(jìn)行。Ionbond 陰極電弧PVD涂層技術(shù)在20世紀70年代后期由前蘇聯(lián)發(fā)明，如今，絕大多數的刀模具涂層使用電弧沉積技術(shù)。

　　工藝溫度：典型的PVD涂層加工溫度在250℃— 450℃之間，但在有些情況下依據應用領(lǐng)域和涂層的質(zhì)量，PVD涂層溫度可低于70℃或高于600℃進(jìn)行涂層。

基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結構疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結構均勻致密,機械強度高,膜層內應力大.

d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.