商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
地址:河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng):金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn):1593-9088815
QQ:1304173334
離子鍍技術(shù)早由D. M. Mattox于1963年提出并付諸實(shí)踐的。其原理是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí),把蒸發(fā)物或其他反應物鍍在基片上的工藝。
根據膜層粒子的獲得方式,離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍,其中蒸發(fā)型離子鍍根據放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。
與不同的氣體發(fā)應形成一種薄膜涂層。今天所使用的大多數PVD方法是電弧和濺射沉積涂層。這兩種過(guò)程需要在高度真空條件下進(jìn)行。Ionbond 陰極電弧PVD涂層技術(shù)在20世紀70年代后期由前蘇聯(lián)發(fā)明,如今,絕大多數的刀模具涂層使用電弧沉積技術(shù)。
工藝溫度:典型的PVD涂層加工溫度在250℃— 450℃之間,但在有些情況下依據應用領(lǐng)域和涂層的質(zhì)量,PVD涂層溫度可低于70℃或高于600℃進(jìn)行涂層。
基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.
b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。
c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結構疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結構均勻致密,機械強度高,膜層內應力大.
d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.
高經(jīng)理先生
手機:15939088815